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Fond de teint Colorstay 24h - Peaux normales à sèches - 150 Chamois
Pour un teint frais et unifié optez pour le fond de teint colorstay 24 de Revlon. Sa composition spécialement formulée pour les peaux normales à sèches offre une hydratation optimale grâce à l'acide hyaluronique pour un confort incomparable. Sa couvrance modulable... En savoir plus
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Description
Pour un teint frais et unifié optez pour le fond de teint colorstay 24 de Revlon. Sa composition spécialement formulée pour les peaux normales à sèches offre une hydratation optimale grâce à l'acide hyaluronique pour un confort incomparable. Sa couvrance modulable permet de camoufler rougeurs et imperfections tout en légèreté. L'essayer c'est l'adopter.
Conseils d'utilisation
Du bout des doigts ou à l'aide d'une éponge blender, appliquer le fond de teint en commençant par le centre du visage, le front, le nez et le menton, puis en allant vers l'extérieur.
Ingrédients
cyclopentasiloxane, aqua (water/eau), titanium dioxide (nano), dimethicone, trimethylsiloxysilicate, peg-9 polydimethylsiloxyethyl dimethicone, phenyl trimethicone, zinc oxide (nano), butylene glycol, silica, methyl methacrylate crosspolymer, nylon-12, dimethicone/peg-10/15 crosspolymer, tribehenin, tocopheryl acetate, bisabolol, ethylhexyl palmitate, cymbidium grandiflorum (orchid) extract, lactobacillus/eriodictyon californicum ferment extract, lilium candidum bulb extract, malva sylvestris (mallow) extract, sodium hyaluronate, tocopherol, methicone, laureth-7, magnesium sulfate, salicylic acid, polyglyceryl-3 diisostearate, disteardimonium hectorite, ethylene brassylate, triethoxycaprylylsilane, alumina, triethyl citrate, sodium citrate, dipropylene glycol, cyclohexasiloxane, dimethicone/silsesquioxane copolymer, silica dimethyl silylate, caprylyl glycol, ammonium polyacryloyldimethyl taurate, serica ((silk) soie), hexylene glycol, tetrasodium edta, polysorbate 20, polysorbate 80, phenoxyethanol, ethylparaben, methylparaben, [may contain +/- : mica, titanium dioxide (ci 77891), ci 77491 (iron oxides), ci 77492, ci 77499]
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